一 、单选题
1. 用冷热探笔法测量导电类型时，热探笔的温度要适当，以（ ）为宜。
A. 30～50℃
B. 40～60℃
C. 50～70℃
D. 60～80℃
答案：B
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2. 冷热探笔法属于利用半导体的（ ）来测量导电类型的方法。
A. 温差电效应
B. 整流效应
C. 以上二种皆可
D. 以上二种皆不可
答案：A
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3. 双光束光栅红外分光光度计，测碳的分辨率应不大于（ ）。
A. 4cm-1
B. 3cm-1
C. 2cm-1
D. 1cm-1
答案：C
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4. 质谱的定量分析是在质谱图上，谱线的峰值所对应的离子流强度即谱线的黑度代表了（ ）从而进行杂质分析。
A. 离子的质量
B. 离子的浓度
C. 离子的运动
D. 离子的温度
答案：B
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5. 硅晶体中，氧的分凝系数（ ）1，碳的分凝系数（ ）1。
A. 大于 小于
B. 大于 大于
C. 小于 小于
D. 小于 大于
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6. 晶面指数最低的晶面总是具有（ ）的晶面间距。
A. 最小
B. 相等
C. 最大
D. 无法判断
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7. 直拉单晶中氧含量头部与尾部相比（ ）。
A. 较高
B. 相同
C. 较低
D. 无法判断
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8. 以下表示晶面指数最恰当的是（ ）。
A. （664）
B. （463）
C. （333）
D. （246）
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9. 三氯氢硅中痕量磷的气相色谱法的基本原则是（ ）法。
A. 自然挥发法
B. 基于时间的差别进行分离
C. 过滤
D. 化学分离
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10. 以下那一项不是三氯氢硅中痕量磷的气象色谱测定步骤中，在温度680度和石英石的催化作用下，样品及其含磷杂质分别被氢还原产物（ ）。
A. 混合氯代硅烷
B. 氯化氢
C. 磷化氢
D. 水
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11. RO反渗透技术是利用（ ）为动力的膜分离过滤技术。
A. 吸附力
B. 离子交换
C. 电力
D. 压力差
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12. 树脂失效表明离子交换树脂可供交换的（ ）大为减少。
A. CL-
B. Na
C. H+和OH-
D. Ca
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13. 制取高纯水时一般采用（ ）交换树脂和（ ）交换树脂。
A. 强酸型阳离子 强碱型阴离子
B. 强碱型阴离子 强酸型阳离子
C. 强酸型阳离子 强酸型阴离子
D. 强碱型阳离子 强碱型阳离子
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14. 下列哪一项不是天然水的三大杂质之一（ ）。
A. 悬浮物质
B. 挥发物质
C. 胶体物质
D. 溶解物质
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15. 露点法测定气体中的水分时，本岗位存在的危险源是（ ）。
A. 液氮低温冻伤
B. 潜在氢气泄露引起的爆炸
C. 温度过高
D. 没有明显危险源国开一网一平台
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16. 直拉单晶中氧含量头部与尾部相比（ ）。
A. 较高
B. 相同
C. 较低
D. 无法判断
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17. 硅单晶样品对红外光的反射率越（ ），吸收系数越（ ），那么红外光的透射率就越小。
A. 高 大
B. 高 小
C. 低 大
D. 低 小
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18. X射线定向法的误差可以控制在（ ）范围内，准确度高。
A. ±10'
B. ±15'
C. ±20'
D. ±30'
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19. 放射线同位素的量越多，放出的γ射线的强度（ ）。
A. 越小
B. 不变
C. 越大
D. 随机变化
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20. X射线定向法的误差可以控制在（ ）范围内，准确度高。
A. ±10'
B. ±15'
C. ±20'
D. ±30'
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二 、多选题
1. 半导体硅的常用腐蚀剂主要有（ ）。
A. Sirtl腐蚀液
B. Dash腐蚀液，我们的目标是要做全覆盖、全正确的答案搜索服务。
C. Wright腐蚀液
D. Shimmel腐蚀液，我们的目标是要做全覆盖、全正确的答案搜索服务。
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2. 露点法测定气体中职业健康安全运行控制正确的是（ ）。
A. 存在危险源：液氮低温冻伤
B. 因没有有毒气体不必做任何防护
C. 在分析氢气露点时用大气赶走气，要注意把氢气引到室外
D. 操作过程酒精可不必谈注意
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3. X射线的衍射法精确度高，它受以下（ ）因素影响。
A. X射线束的发散性
B. X射线束准直性
C. 转角鼓轮读数轮刻度的精度
D. 天气温度
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4. 在立方晶系中，主要有如下（ ）性质。
A. a=b=c
B. 体积
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5. 混床的再生中是两种树脂充分混合的方法有（ ）。
A. 自然混合法
B. 用真空泵进行混合，自上口抽气，打开下口阀门进气，用空气搅动阴阳离子交换树脂达到充分混合的目的
C. 加入混合剂使之混合
D. 用压缩空气自底部进入，上口排除
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三 、问答题
1. 简述离子交换法制备纯水交换、再生过程。
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2. 简述用分析法对三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定的方法原理。
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3. 简述在立方晶系中，一个晶面的晶面指数是如何决定的。
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四 、配伍题
1. 将下列三氯氢硅中硼的分析试剂一一对应。
A. 10mΩ以上的离子交换水
B. 纯水
C. 优级纯氢氟酸，在用自制的聚乙烯蒸馏器蒸馏一次
D. 氢氟酸
E. Be标准液
F. 2.5µgBe/mL
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2. 将下列自动软化系统工艺过程一一对应。
A. 再生用盐液在一定浓度、流量下，流经失效的树脂层，使其恢复原有的交换能力
B. 反洗
C. 向再生剂箱中注入溶液再生一次所需盐量的水
D. 再生吸盐+慢洗
E. 再生剂箱注水
F. 树脂失效后，在进行再生之前，先用水自上而下流出
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3. 硅中氧和硅原子之间组成非线性Si-O-Si模型，请将以下关系一一对应。
A. 硅原子向氧原子运动，振动频率1205 cm-1
B. 硅-氧键的对称伸张振动
C. 硅-氧键的弯曲振动
D. 硅原子偏离赤道面，振动频率515 cm-1
E. 硅原子沿硅-氧键的方向运动，振动频率1105 cm-1
F. 硅-氧键的反对称伸张振动
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4. 将下列硅的腐蚀剂与腐蚀时间一一对应。
A. 10～15min
B. Shimmle腐蚀液
C. 20 min以上
D. Wright腐蚀液
E. Sirtl腐蚀液
F. 5min
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5. 将下列质谱分析造成其误差较高的因素与原因一一对应。
A. 杂质不均匀
B. 与元素本身性质、样品中元素的选择及离子源火花条件有关
C. 因为质谱分析一次只消耗少量样品，不能代表整个样品杂质含量
D. 各元素电离效率
E. 谱线黑度
F. 受到很多因素，如离子质量影响
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发表于 2024-4-20 13:07:32
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