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光伏检测与分析-018
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一 、单选题
1. 用冷热探笔法测量( )半导体时,冷端带正电,热端带负电。
A. P型
B. N型
C. PN型
D. 以上皆不是
答案:A
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2. 用冷热探笔法测量( )半导体时,冷端带负电,热端带正电。
A. P型
B. N型
C. PN型
D. 以上皆不是
答案:B
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3. 硅晶体中,氧的分凝系数( )1,碳的分凝系数( )1。
A. 大于 小于
B. 大于 大于
C. 小于 小于
D. 小于 大于
答案:A
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4. 气相色谱法测定干法H2的组分岗位存在的环境因素是( )。
A. 液氮低温冻伤
B. 潜在氢气泄露引起的爆炸
C. 温度过高
D. 没有明显危险源
答案:B
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5. 光图定向法结果直观,操作( ),误差( )。
A. 简单 较大
B. 复杂 较大
C. 简单 较小
D. 复杂 较小
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6. 晶面指数最低的晶面总是具有( )的晶面间距。
A. 最小
B. 相等
C. 最大
D. 无法判断
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7. 直拉单晶中氧含量头部与尾部相比( )。
A. 较高
B. 相同
C. 较低
D. 无法判断
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8. 以下表示晶面指数最恰当的是( )。
A. (664)
B. (463)
C. (333)
D. (246)
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9. RO反渗透技术是利用( )为动力的膜分离过滤技术。
A. 吸附力
B. 离子交换
C. 电力
D. 压力差
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10. 露点法测定气体中的水分时,本岗位存在的危险源是( )。
A. 液氮低温冻伤
B. 潜在氢气泄露引起的爆炸
C. 温度过高
D. 没有明显危险源国开一网一平台
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11. 三氯氢硅中痕量磷的气相色谱法的基本原则是( )法。
A. 自然挥发法
B. 基于时间的差别进行分离
C. 过滤
D. 化学分离
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12. 制取高纯水时一般采用( )交换树脂和( )交换树脂。
A. 强酸型阳离子 强碱型阴离子
B. 强碱型阴离子 强酸型阳离子
C. 强酸型阳离子 强酸型阴离子
D. 强碱型阳离子 强碱型阳离子
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13. 纯水是电阻率达到( )左右的水。
A. 8
B. 9
C. 10
D. 11
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14. 树脂失效表明离子交换树脂可供交换的( )大为减少。
A. CL-
B. Na
C. H+和OH-
D. Ca
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15. 露点法测定气体中的水分时,本岗位存在的危险源是( )。
A. 液氮低温冻伤
B. 潜在氢气泄露引起的爆炸
C. 温度过高
D. 没有明显危险源
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16. 硅单晶样品对红外光的反射率越( ),吸收系数越( ),那么红外光的透射率就越小。
A. 高 大
B. 高 小
C. 低 大
D. 低 小
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17. ( )是影响硅器件的成品率的一个重要因素,也是影响器件性能的稳定性和可靠性的重要因素。
A. 点缺陷
B. 线缺陷,我们的目标是要做全覆盖、全正确的答案搜索服务。
C. 面缺陷
D. 微缺陷
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18. X射线定向法的误差可以控制在( )范围内,准确度高。
A. ±10'
B. ±15'
C. ±20'
D. ±30'
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19. 放射线同位素的量越多,放出的γ射线的强度( )。
A. 越小
B. 不变
C. 越大
D. 随机变化
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20. X射线定向法的误差可以控制在( )范围内,准确度高。
A. ±10'
B. ±15'
C. ±20'
D. ±30'
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二 、多选题
1. 影响半导体单晶电化学腐蚀速度的因素主要有( )。,我们的目标是要做全覆盖、全正确的答案搜索服务。
A. 腐蚀液的成分
B. 电极电位
C. 缓冲剂的影响
D. 腐蚀处理的温度和搅拌的影响
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2. 目前常用的测量非平衡少数载流子寿命的方法,一般主要有( )。
A. 瞬态法
B. 直接法
C. 稳态法
D. 间接法
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3. 自动软化系统中的控制阀功位由( )盐箱注水组成。
A. 运行
B. 反洗
C. 再生+慢洗
D. 快洗
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4. 由于硅晶体经历了各种温度的热处理,过饱和的间隙氧会在硅晶体中偏聚和沉淀,形成了( )。
A. 氧施主,我们的目标是要做全覆盖、全正确的答案搜索服务。
B. 氧沉淀
C. 二次缺陷
D. 氧分离
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5. 露点法测定气体中水分的过程控制表述正确有( )。
A. 用金属导管将被测气体导入露点瓶,出口气体经石蜡液封瓶放空测定前要赶气1h
B. 测定时,在封底铜管内加入制冷剂,在插入一直-80℃低温温度计小心搅拌,使温度下降,注意观察,当喷口所对的铜管表面出现露斑,即读出温度值,这就是测得的露点温度
C. 测定流速控制在250—300ml/min
D. 通常测-34℃以下气体观察到的是霜点,根据实验测得霜点和露点相应温度差约4℃
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三 、问答题
1. 简述RO系统清洗条件。
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2. 简述用分析法对三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定的方法原理。
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3. 高频光电导衰退法测量非平衡少数载流子寿命的基本原理是什么?
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四 、配伍题
1. 将下列RO膜污染原因与适应药液一一对应。
A. 1.5%EDTA溶液
B. 碳酸盐结垢
C. 有机物污染及硫酸盐结构
D. 1%富尔马林溶液
E. 3%柠檬酸溶液
F. 细菌污染
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2. 将下列离子交换树脂的类型与变型用化学试剂用量浓度一一对应。
A. 强酸型离子交换树脂
B. 5%-10%盐酸溶液3000ml
C. 强碱型离子交换树脂
D. 5%-10%氢氧化钠溶液2500ml
E. 4%-5%Nacl溶液浸泡
F. 干树脂
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3. 将下列立方晶系部分晶面间的夹角关系一一对应。
A. 0° 60° 90°
B. {100} {100}
C. {100} {110}
D. 0° 90°
E. {110} {110}
F. 45° 90°
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4. 将下列气相色谱法测定干法H2的组分时样品测试各恒温系统与温度一一对应。
A. 层析室
B. 80℃±5℃
C. 70℃±5℃
D. 检测室
E. 100℃±5℃
F. 气化室
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5. 将下列半导体硅的常用腐蚀剂液体试剂的浓度一一对应。
A. 70%
B. HF
C. 49%
D. HNO3
E. H2O2
F. 30%
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