【国开搜题】国家开放大学 一网一平台 光伏检测与分析013 期末考试押题试卷与答案

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发表于 2024-4-20 13:01:32 | 显示全部楼层 |阅读模式
光伏检测与分析-013
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一 、单选题
1. 冷热探笔法属于利用半导体的( )来测量导电类型的方法。
A. 温差电效应
B. 整流效应
C. 以上二种皆可
D. 以上二种皆不可
答案:A
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2. 三探针法属于利用半导体的( )来测量导电类型的方法。
A. 温差电效应
B. 整流效应
C. 以上二种皆可
D. 以上二种皆不可
答案:B
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3. 质谱的定量分析是在质谱图上,谱线的峰值所对应的离子流强度即谱线的黑度代表了( )从而进行杂质分析。
A. 离子的质量
B. 离子的浓度
C. 离子的运动
D. 离子的温度
答案:B
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4. 光图定向法结果直观,操作( ),误差( )。
A. 简单 较大
B. 复杂 较大
C. 简单 较小
D. 复杂 较小
答案:A
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5. 光图定向法结果直观,操作( ),误差( )。
A. 简单 较大
B. 复杂 较大
C. 简单 较小
D. 复杂 较小
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6. 直拉单晶中氧含量头部与尾部相比( )。
A. 较高
B. 相同
C. 较低
D. 无法判断
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7. 晶面指数最低的晶面总是具有( )的晶面间距。
A. 最小
B. 相等
C. 最大
D. 无法判断
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8. 以下表示晶面指数最恰当的是( )。
A. (664)
B. (463)
C. (333)国开一网一平台
D. (246)
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9. RO反渗透技术是利用( )为动力的膜分离过滤技术。
A. 吸附力
B. 离子交换
C. 电力
D. 压力差
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10. 露点法测定气体中的水分时,本岗位存在的危险源是( )。
A. 液氮低温冻伤
B. 潜在氢气泄露引起的爆炸
C. 温度过高
D. 没有明显危险源
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11. 以下那一项不是三氯氢硅中痕量磷的气象色谱测定步骤中,在温度680度和石英石的催化作用下,样品及其含磷杂质分别被氢还原产物( )。
A. 混合氯代硅烷
B. 氯化氢
C. 磷化氢
D. 水
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12. 树脂失效表明离子交换树脂可供交换的( )大为减少。
A. CL-
B. Na
C. H+和OH-
D. Ca
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13. 制取高纯水时一般采用( )交换树脂和( )交换树脂。
A. 强酸型阳离子 强碱型阴离子
B. 强碱型阴离子 强酸型阳离子
C. 强酸型阳离子 强酸型阴离子
D. 强碱型阳离子 强碱型阳离子
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14. 纯水是电阻率达到( )左右的水。
A. 8
B. 9
C. 10
D. 11
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15. ( )是影响硅器件的成品率的一个重要因素,也是影响器件性能的稳定性和可靠性的重要因素。
A. 点缺陷
B. 线缺陷
C. 面缺陷
D. 微缺陷
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16. 露点法测定气体中的水分时,本岗位存在的危险源是( )。
A. 液氮低温冻伤
B. 潜在氢气泄露引起的爆炸
C. 温度过高
D. 没有明显危险源
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17. 位错密度通常采用( )来表示,可在金相显微镜下测定。
A. 体密度
B. 面密度
C. 线密度
D. 以上皆不是
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18. X射线定向法的误差可以控制在( )范围内,准确度高。
A. ±10'
B. ±15'
C. ±20'
D. ±30'
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19. X射线定向法的误差可以控制在( )范围内,准确度高。
A. ±10'
B. ±15'
C. ±20'
D. ±30'
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20. 放射线同位素的量越多,放出的γ射线的强度( )。
A. 越小
B. 不变
C. 越大
D. 随机变化
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二 、多选题
1. 由于硅晶体经历了各种温度的热处理,过饱和的间隙氧会在硅晶体中偏聚和沉淀,形成了( )。
A. 氧施主
B. 氧沉淀
C. 二次缺陷
D. 氧分离
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2. 用接触法测量半导体单晶电阻率的方法主要有( )。
A. 两探针法
B. 四探针法国开一网一平台
C. 扩展电阻法
D. 范德堡法
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3. 离子交换法制备纯水时,新树脂的预处理方式是( )。
A. 膨胀处理
B. 混合处理
C. 变形处理
D. 稀释处理
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4. 质谱分析造成其误差较高的因素有( )。
A. 杂质在样品中的不均匀分布
B. 元素本身的性质、样品中元素的选择及离子源火花条件对电离效率的影响
C. 离子质量影响用谱线黑度来反映强度
D. 主元素谱线的干扰
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5. 某样品受到红外线照射时,会产生以下( )现象。
A. 反射
B. 折射,我们的目标是要做全覆盖、全正确的答案搜索服务。
C. 吸收
D. 透过
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三 、问答题
1. 简述RO系统清洗条件。
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2. 简述用分析法对三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定的方法原理。
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3. 简述在立方晶系中,一个晶面的晶面指数是如何决定的。
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四 、配伍题
1. 将下列气相色谱法测定干法H2的组分时样品测试各恒温系统与温度一一对应。
A. 层析室
B. 80℃±5℃
C. 70℃±5℃
D. 检测室
E. 气化室
F. 100℃±5℃
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2. 将下列混床再生中操作步骤一一对应。
A. 再生剂为5%的NaOH,用量为树脂体积的3-5倍, 从上口进入,控制一定流速,维持液面顺流通过
B. 逆洗分层
C. 强碱性阴离子交换树脂再生
D. 水从底部进入,上口排出,树脂均匀地松弛蓬松开来,可加大水流速以冲不出树脂为原则,洗至出水清高度
E. 再生剂为5%盐酸,用酸量为阳离子交换树脂体积的2-3倍
F. 强酸性阳离子交换树脂再生
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3. 硅中氧和硅原子之间组成非线性Si-O-Si模型,请将以下关系一一对应。
A. 硅原子向氧原子运动,振动频率1205 cm-1
B. 硅-氧键的对称伸张振动
C. 硅-氧键的弯曲振动,我们的目标是要做全覆盖、全正确的答案搜索服务。
D. 硅原子偏离赤道面,振动频率515 cm-1
E. 硅原子沿硅-氧键的方向运动,振动频率1105 cm-1
F. 硅-氧键的反对称伸张振动
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4. 将下列不同电阻率的测量电流范围一一对应。
A. 样品电阻率<0.01
B. 样品电流<100
C. 样品电阻率0.01~1
D. 样品电流<10
E. 样品电阻率1~30
F. <1
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5. 将下列质谱分析造成其误差较高的因素与原因一一对应。
A. 杂质不均匀
B. 与元素本身性质、样品中元素的选择及离子源火花条件有关
C. 因为质谱分析一次只消耗少量样品,不能代表整个样品杂质含量
D. 各元素电离效率
E. 谱线黑度
F. 受到很多因素,如离子质量影响
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